胶体CdSe量子点的合成工艺及其在喷墨打印技术中的应用
【图文】:
随着纳米晶几何尺寸的减小,平动能快速增加。只考虑第一激发态发能可以用式(1.2.1-1)表示:激子 体相 激子(电子 空穴) (1.2这就是量子限域效应公式,在 20 世纪 80 年代初由 Brus 等人[19]提出的项表示纳米晶中激子的最低激发态的能量差,也就是我们通常说的第一项是半导体晶体体相的的带隙,第二项是电子-空穴结合在一起的作用能,第三项则是表现量子限域效应的半导体纳米晶激子动能项。的 h 为普朗克常量,电子和空穴分别代表电子和空穴的有效质量,米晶的几何半径(纳米晶被近似为球形)。
图 1.2 CdSe 量子点的表面原子比例与其粒径的关系dSe 量子点的研究进展Se 量子点是一种常见的 II-VI 族半导体纳米晶,其体相能隙为 1.半径为 5.0 nm,属于直接带隙半导体材料。目前,虽然还没能发展半导体量子点合成化学的理论模型,但是半导体量子点的合成化学当长足的进步[30-33],人们已经可以很好的控制尺寸与尺寸分布以及高质量的 CdSe 量子点具有尺寸相关的光电学性质,较高的荧光量光稳定性等,被广泛应用在光电器件,光电催化,生物成像等领dSe 量子点的合成过去 30 多年的研究过程中,化学合成始终是半导体量子点最活跃
【学位授予单位】:吉林大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:O471.1;TP334.83
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