可录光盘存储介质的合成及其耐光性研究

发布时间：2020-06-08 23:57

【摘要】： 以存储密度高、存储寿命长为特点的光盘存储技术是信息科技的重要组成部分,存储介质一直是光存储技术中的关键问题。与无机材料相比,有机介质材料具有灵敏度高、容易加工和便于调整结构性能等特点。当前广泛使用的有机光存储介质包括菁染料、酞菁染料、偶氮染料等。由于菁染料与其他染料相比具有较好的溶解性能、易于制备、成本更低等优点,在光盘存储方面具有很大的研究和应用潜能,因此引起了人们的高度重视。本论文简要介绍了可录光盘染料的基本概念,主要包括其记录机理、基本类型和其配制、涂布、洗边等主要工艺。本论文的研究工作主要分为以下几个部分: 1.合成了四种光盘用菁染料(1)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基吲哚三碳菁高氯酸盐(2)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基苯并吲哚三碳菁高氯酸盐(3)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基吲哚二碳菁高氯酸盐(4)3,3,3’,3’-四甲基-1,1’-二正丁基苯并吲哚二碳菁高氯酸盐 2.合成了两种单线态氧猝灭剂(1)3,4-二巯基-吗啉苯磺酸镍络合物季铵盐(2)N,N-二乙基-3,4-二巯基苯磺酰胺镍络合物季铵盐 3.合成了两种配对离子化合物(1)吗啉配对离子化合物(2)二乙胺配对离子化合物 4.采用红外光谱和核磁共振谱对上述合成产物进行结构表征,结果表明与理论结构相符;采用紫外分光光度计测定了所合成菁染料的吸收光谱;在碘-钨灯照射条件下对产物进行耐光性测试,结果表明上述两种单线态氧猝灭剂能够显著提高菁染料的耐光性。
【图文】：

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写入后，CD-R 盘片上的信息将无法改写， CD-ROM 驱动器上反复读取。CD-R 光盘的突出生产工艺可采用旋涂工艺，从而使成本大大降低，，2 元。另外，CD-R 光盘可以刻写成各类 CD 家族视频光盘、CD-ROM 数据光盘，其应用范围非常巨大成功，有关资料显示，2003 年，CD-R 盘片全量多达 8 亿多片。目前，国内 CD-R 光盘生产线存储数据以后，能够立即投入使用，误读率很低，，在档案存储方面有很大的应用价值。一张 5.25 Mbytes，相当于 15 万张A4纸的容量，还可以直接面。同时，它还具有只读型光盘的所有功能。盘的结构的结构如图 1－3－1 所示，从上而下分别是基层（也叫做印刷层）。

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图 4-3 化合物 3 吸收光谱Figure 4-4 The absorbance spectrum of the compound 4图 4-5 化合物 5 吸收光谱Figure 4-5 The absorbance spectrum of the compound 5图 4－4 化合物 4 吸收光谱Figure 4-5 The absorbance spectrum of the compound 图 4-6 化合物 6 吸收光谱Figure 4-6 The absorbance spectrum of the compound 由化合物 1～4 光吸收特性可见，三碳菁化合物比二碳菁化合物λmax增大，甲链－(CH=CH)n－CH= 当n增加 1 最大吸收波长约增大 100nm。含相同甲川链的 1 与 3 与 4 比较可见，苯环改变为萘环时，λmax增大约 38nm。其原因是，当苯环改变为环或者甲川链增长造成染料分子共轭体系增长，因此λmax增大。
【学位授予单位】：天津理工大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2005
【分类号】：TQ591

【引证文献】