微纳米阻变存储阵列的制备与机理研究
【学位单位】:国防科学技术大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2010
【中图分类】:TP333
【部分图文】:
(a) (b)图 1.1 磁阻存储器件的阻变机理(a) 高阻状态的机理示意 (b) 低阻状态的机理示意图谐振隧道二极管(Resonance Tunnel Diode, 简称 RTD)由发射区与接收区以个双隧道势垒结构组成,双隧道势垒结构中包含一个窄的量子阱,其只有一谐振能级。当电子与此谐振能级对齐时,电子就会从发射区向接收区传输(如.2 所示)。基于隧道二极管设计的 SRAM 称为 TSRAM。它通常由一个单通晶和一对低功耗 RTD 组成,DRAM 需要重复的刷新以保持单元的信息,但是AM 则不需要刷新操作,它的数据可被 RTD 电路锁存。TSRAM 的缺点主要是的单元面积以及需要另外添加偏压线等。
) (b)图 1.1 磁阻存储器件的阻变机理 高阻状态的机理示意 (b) 低阻状态的机理示Resonance Tunnel Diode, 简称 RTD)由组成,双隧道势垒结构中包含一个窄的与此谐振能级对齐时,电子就会从发射区二极管设计的 SRAM 称为 TSRAM。它D 组成,DRAM 需要重复的刷新以保持操作,它的数据可被 RTD 电路锁存。TS要另外添加偏压线等。
国防科学技术大学研究生院硕士学位论文45nm 尺度,传统 CMOS 工艺逐渐暴露出漏电流大,信号串扰严重,功耗密度大等一系列问题,这就需要寻找新型的技术来解决现行的 CMOS 工艺存在的问题。随着交叉学科知识与技术的发展,大量研究工作者正通过不同领域的知识与技术解决其本领域存在的各种问题。同样计算机技术研究人员也试图利用材料技术、纳米技术等技术解决微电子器件特征尺寸微缩产生的问题。阻变存储器就是将材料技术与纳米技术应用于计算机存储器件研究的例子之一。阻变存储器是在外加电场作用下材料的电阻可在高阻态和低阻态之间实现可逆转换的非易失性存储器。与传统 CMOS(互补金属氧化物半导体)器件相比,它具有低操作电压、低功耗、高写入速度、耐擦写、非破坏性读取、保持时间长、结构简单、与 CMOS 工艺兼容性好等优点而被广泛研究。交叉线结构阻变存储器是这一领域的研究的热点之一。交叉结构的基本原理(如图 1.3(a)所示)是把一套相互平行的纳米(或微米级)导线与另一套导线做十字交叉,并在这两套导线间填充阻变材料。
【共引文献】
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本文编号:2859123
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