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提高光存储性能参数的理论研究

发布时间:2021-03-21 23:00
  信息时代里的一个重要问题就是如何处理我们每天面临的的大量声音,图像,数据和文字等信息。随着世界上各类事物之间的关系变得更加复杂和联系的更加紧密,人们已经开始意识到了掌握信息的存储、处理和传输技术迫在眉睫。光盘存储技术是在二十世纪发展起来的以光波载息的存储技术,具有存储高存储密度、高信息输入输出速率、快速随机存取信息及存储寿命长等特点,目前已成为多媒体和信息高速公路的关键技术之一。本文介绍了光存储技术的基本原理,光盘驱动器的基本结构,分析了影响光信息性能参数的主要因素,通过理论计算,提出了提高光存储容量及密度、数据速率、存取时间的方法。其中重点介绍了提高光存储容量及密度的方法。在传统的缩短激光器波长、增大数值孔径的基础上,提出了突破衍射极限的方法,即采用三维存储和使用超半球形的固体浸润透镜等方法来实现近场光存储,从而缩小光斑的尺寸。 

【文章来源】:长春理工大学吉林省

【文章页数】:53 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

提高光存储性能参数的理论研究


“ZP”过程演示图

存储介质,灵敏度,坑孔,薄膜吸收


的坑孔(图2.8(e))‘2。,o这样记录的信息,很难满足上述写/读光盘对存储介质的要求,原因是入射到膜面的激光能量E。(图2.9),一部分在膜面反射(E,),大部分被薄膜吸收(E,),还有一部分在薄膜中因径向热扩散而损失(“),剩余的部分透射到衬盘之中(E了),即

【参考文献】:
期刊论文
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本文编号:3093657

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