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吸收度调制激光直写关键技术研究

发布时间:2021-06-01 22:20
  光学超分辨技术在光学加工、检测以及成像等领域有着广泛的应用。光学超分辨光刻是光学超分辨技术在光刻领域的实践。在众多超分辨光刻技术中,基于光致变色材料的吸收度调制超分辨光刻是一种利用远场光调制近场光的非接触式光刻技术,具有对比度高且控制简单的优点。但是该技术主要是用干涉条纹来限制光刻的线宽,只能产生如光栅的简单图案,难以提高单点分辨率。本课题组创新性地将该技术和激光直写系统融合在一起形成了吸收度调制激光直写系统,并成功刻写出超分辨直写线条。尽管如此,对基于光致变色材料的吸收度调制激光直写技术的研究还不够深入。基于此,本论文的主要目的并非产生超分辨直写线条,而是作为补充,研究它的理论基础和若干关键技术。基于光致变色材料的吸收度调制激光直写的机理是吸收度调制效应,它是通过限制光调节光强来调节介质对写入光的吸收率进而调制其透射光强。当写入光照射光致变色材料时,材料的构型从一种结构转化成另一种结构,两种结构有不同的吸收光谱,而限制光可以将此变换逆转,两者相互竞争。由于限制光在吸收度调制中作用更明显,当达到动态平衡时,写入光的线宽被有效地压缩。本文分析了该效应的微观过程,并以此建立了吸收度调制激光... 

【文章来源】:浙江大学浙江省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:80 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

吸收度调制激光直写关键技术研究


图1.2(a)纳米光纤斜触式光刻装置示意图(b)近场扫描显微镜(NSOM)??基于功能材料的超分辨技术则主要是利用功能材料或器件的特殊效应实现光学超分??

示意图,近场光,探针,纳米


(b)?(c)??图1.3(a)超透镜光刻系统图和SPR超透镜刻写结果(b)纳米金属顆粒光刻(c)负折射率透镜模??扳光刻示意图??另外,基于光致变色效应的吸收度调制超分辨技术是一种远场和近场结合的光学超分??辨技术,主要通过远场光束作用下产生光学近场吸收调制效应实现。在突破衍射极限的同??时,不会产生远场调制超分辨技术中的旁瓣效应,且不需要像近场光学超分辨技术那样对??探针进行精确控制。因此,这种吸收调制超分辨技术具有很大的研究和应用价值。更重要??的是,具有吸收度调制效应的光致变色材料可以重复利用,若用在光学超分辨光刻中,将??大大降低光刻的应用成本。??1.2光学超分辨光刻技术研究现状??韩国延世大学(Yonsei?University)提出了?一种图1.4所示的基于接触式探针的近场光??刻技术lU)|,使用固体浸没透镜或纳米孔径来增强近场写入方法中的分辨率,其光刻线宽覆??盖了亚微米至纳米尺度。同时,他们将几种探针与传统的激光光刻系统集成在一起,并使??用405nm波长的激光器实现了高达35nm的图案分辨率。此外

透镜,光刻系统,纳米金属,负折射率


大大降低光刻的应用成本。??1.2光学超分辨光刻技术研究现状??韩国延世大学(Yonsei?University)提出了?一种图1.4所示的基于接触式探针的近场光??刻技术lU)|,使用固体浸没透镜或纳米孔径来增强近场写入方法中的分辨率,其光刻线宽覆??盖了亚微米至纳米尺度。同时,他们将几种探针与传统的激光光刻系统集成在一起,并使??用405nm波长的激光器实现了高达35nm的图案分辨率。此外,该系统探头的扫描速度足??够高(约l()mm/s),可用于实际的工业制造。??Objcctivo?loos,?Ob]ecfiv???405nm?laser??Sheet?metal????-rn9??(a)?(b)??图1.4(a)接触式探针的近场光刻的SIL-探针(b)纳米探专t??4??

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本文编号:3210264

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