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1. 基于
HfO
_
2
电荷俘获层氧缺陷存储特性研究
2. Distribution of electron traps in SiO
2
/
HfO
2
nMOSFET
3. Electron trapping properties at
HfO
2
/SiO
2
interface, stud
4.
HFO
-1
2
34yf+HFC-3
2
的pvTx性质和
HFO
-1
2
34ze(E)+CO
2
的气液相平衡性质研究
5.
HfO
2
薄膜热特性的分子动力学模拟与实验研究
6. YON界面钝化层改善
HfO
2
/Ge界面特性的研究
7. Ni/
HfO
2
/Pt阻变单元特性与机理的研究
8. 原子层沉积结合微波退火制备
HfO
2
薄膜及其光电性能研究
9. 1064nm激光预处理对
HfO
2
/SiO
2
反射膜损伤形态转化影响研究
10. 局域介电方法及其在Si/SiO
2
和Si/
HfO
2
结构上的应用研究
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