低氟MOD法制备Zr掺杂YBCO厚膜的性能研究

发布时间：2021-10-25 02:08

　　提高膜厚是一种常用的提高YBCO涂层超导体导电能力的方法。如何在提高膜厚的基础上抑制薄膜的临界电流密度（Jc）在外场下的迅速下降是实现YBCO涂层导体产业化的关键。本文选用高钉扎效果的Zr掺杂YBCO复合薄膜进行膜厚和性能关系的研究,在LaAlO₃基底上分别通过单次、两次、三次和四次涂覆制备了膜厚分别达200 nm（单层膜）、400 nm（双层膜）、600 nm（三层膜）和800 nm（四层膜）的Zr/YBCO复合薄膜,并详细研究了Zr/YBCO复合薄膜在不同膜厚下的微观结构、表面形貌以及超导性能。研究发现,低氟MOD法在重复涂覆制备厚膜的过程中大大节省了时间,提高了制备效率。此外,通过研究YBCO复合膜的厚度和临界电流的关系,得出如下结果:在厚度不超过600 nm的前提下,随着复合膜厚度的增大,其临界电流保持逐渐增加的趋势。其中,单层薄膜的Jc值最大,达到了3.34 MA/cm²;三层膜的Jc值达到了1.91 MA/cm²,其Ic值最大,达到了每厘米带宽114.6 A。 

【文章来源】：人工晶体学报. 2016,45(09)北大核心CSCD

【文章页数】：5 页

【文章目录】：
1 引言
2 实验
3 结果与讨论
4 结论


【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3456438