上颌后牙区正畸微种植体支抗植入安全区的测量研究

发布时间：2017-10-11 10:10

  本文关键词：上颌后牙区正畸微种植体支抗植入安全区的测量研究

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【摘要】：目的通过测量与正畸微种植体植入相关的牙体距离和软组织距离,确定上颌后牙区正畸微种植体支抗植入的安全区。方法采用21例正畸前患者颅面部锥形束CT扫描重建图像,使用测量软件测量上颌左右两侧后牙区距水平面6、8、10、12、14、16 mm处相邻两牙牙根的近远中距离,游标卡尺测量双侧上颌后牙临床牙冠的高度,牙周探针测量双侧上颌后牙区附着龈的宽度。结果上颌第二前磨牙和第一磨牙近中颊根之间的近远中距离最大,上颌第一前磨牙的牙冠高度最大,上颌第二磨牙的附着龈宽度最大。结论上颌后牙处微种植体植入的安全区位于上颌第二前磨牙与第一磨牙之间,距相邻两牙颊尖连线垂直高度10~11 mm处。
【作者单位】： 济南市口腔医院东院区正畸科;沈阳军区总医院口腔内科;
【关键词】： 微种植体 安全区 支抗
【基金】：辽宁省自然科学基金(201202235)
【分类号】：R783.5
【正文快照】： 正畸微种植体支抗被称为绝对支抗,不仅是因为它能够承受正畸治疗过程中的矫治力,而且不依赖于患者的配合,能够在成功的控制矫治牙移动的同时保证支抗牙的稳定。但是,在微种植体临床植入的过程中,经常会发生微种植体损伤邻牙牙周膜和牙根、微种植体穿入上颌窦及微种植体植入后

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本文编号：1011918