新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合的研究

发布时间：2020-06-30 02:17

【摘要】：随着口腔修复学的发展,将烤瓷技术与整铸活动义齿相结合这种新型的工艺日益被人们所重视。为此我们自行开发研制了国产新型牙用烤瓷支架钴铬合金,前期的研究结果表明:合金生物性能、机械性能良好,可以用于临床制作;而如何进一步提高自研合金的金瓷结合力,以达到更完美的修复学效果,成为了本论文研究的重点。因此,本文探讨了五种不同的表面处理技术对合金表面进行处理,研究其对烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响;同时还借助了扫描电镜以及能谱分析仪对金瓷结合界面进行了深入的分析,结果表明: (1) 本合金在上瓷之前,需要预氧化,氧化温度为980℃,时间为5分钟。 (2) 利用溶胶-凝胶技术,起到了改善金瓷结合的作用。 (3) 将纳米材料(纳米二氧化硅、纳米金介质)上瓷之前涂附于金属基底表面,起到了提高金瓷结合强度的作用。 (4) 两种真空镀膜方法,即磁控反应溅射镀膜技术提高了金瓷结合强度而电子束真空蒸发镀膜技术却降低了金瓷结合强度。 (5) 利用等离子喷涂技术来改善金瓷结合,起到了明显的效果。
【学位授予单位】：四川大学
【学位级别】：博士
【学位授予年份】：2005
【分类号】：R783
【图文】：

过渡层与金属基体和瓷层之间附着紧密;过渡层宽度约10unl，明显反应区宽约1一Zunl。电子探针分析金瓷结合界面主要有C，r，Osi，Al，Mn等元素(图1一9，图1一10)。能谱分析显示，界面Cr的峰值较高，说明Cr积极参与了界面的氧化反应，在金瓷结合化学反应中起重要的作用。图l一1盆瓮棒盆试1午专用上瓮模具Figl一1Specialmoldorfapp】yingPocrelnaiorford一加ysPecnline图1召金瓷棒盘试件Fig卜2Theord~taryPsecimne

Figl一3Mieoreos而eobsverationnadEPMAnilineofmeatl~Poerelaininetri触ee(controlgroPu)SEMx2000图1一4金一瓷结合界面能谱点分析(对照组)Figl一4EPMAinPointofmeatl一poerelaininteri滋ce(eontrolgoruP)

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本文编号：2734707