三种不同全瓷系统底层冠适合性的比较

发布时间：2020-07-02 12:08

【摘要】：目的 本实验主要研究三种不同全瓷冠系统制作的底层冠边缘适合性，为临床应用提供理论依据。 方法 通过模拟下颌前磨牙来加工一个金属主代型，然后复制12个环氧树脂子代型，随机分为4组，分别制作镍铬金属烤瓷冠、 IPS-Empess2陶瓷冠、GI-II全瓷冠、Cerec3D全瓷冠系统各3个，粘接（3M-Relyx Unicem），包埋，片切，用扫描电镜(SEM）来评价冠的适合性，用Smile view软件测量边缘，肩台，轴面，牙合面的粘固剂垂直距离，然后计算各个距离的平均值和标准差，采用单因素方差分析和q检验来进行统计分析。 结果 镍铬金属烤瓷，IPS-Empess陶瓷， Cere3系统全瓷，GI-II全瓷，的边缘适合性分别为(88.2±21.2μm)，（65.1±11.1μm)，（87.4±8.9μm），（108.9±12.5μm）,肩台适合性分别为（109.9±12.4μm）（87.0±11.0μm），（107.9±21.0μm）,(117.4±15.5μm）轴面适合性分别为（41.8±8.0μm）,(62.6±12.0μm),（93.9±35.5μm）,(116.5±6.2μm）。牙合面适合性分别为（106.9±14.0μm）(64.6±27.0μm)，（213.2±29.0μm），（107.3±11.2μm）。各种全瓷系统边缘适合性之间有显著差异(P＜0.05），IPS-Empress2系统制作的冠边缘的间隙最小，GI-II系统制作全瓷冠的边缘间隙最大。 结论 三种全瓷系统底层冠的边缘适合性都在120μm临床接受的范围之内。IPS-Empess系统边缘间隙最小且均匀一致，边缘适合性最高，GI-II系统边缘间隙虽然最大且不均匀，但符合临床上适合性的要求。
【学位授予单位】：辽宁医学院
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2012
【分类号】：R783

【参考文献】

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本文编号：2738179