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三种激光应用于牙本质过敏症安全性与有效性的离体研究

发布时间:2020-07-15 18:22
【摘要】:目的:1.探索临床上应用较多的三种不同的激光Nd:YAP激光、半导体激光、Nd:YAG激光分别在0.9w、1.4w、1.8w三个功率下治疗人工模拟牙本质过敏症的离体牙模型时髓腔温度的变化,评价这三种激光治疗牙本质过敏症对牙髓组织的安全性,为临床激光的规范化应用提供实验依据;2.激光照射结束后,定性定量分析牙本质小管的封闭情况,以评价这三种激光器脱敏的有效性。3.根据所得的髓腔温度变化结果和牙本质小管封闭结果,综合考虑安全性和有效应原则,选择出既能最大程度的封闭牙本质小管又不引起髓腔温度升高较多的激光参数,为临床上安全面有效的使用这三种激光治疗牙本质过敏症提供实验依据,同时为激光的临床规范化应用提供数据参考。方法:1.样本收集与处理:收集新鲜拔除的、无损伤、无龋坏完整的年轻患者的第三磨牙50颗,截根留冠后暴露出髓腔,从髓室底去除牙髓组织,去除冠方的全部牙釉质暴露出牙本质,抛光轮和抛光纸抛光牙本质面后,用35%磷酸酸蚀牙本质面15s,制备人工模拟牙本质过敏症模型,4℃生理盐水中保存,备用。2.仪器校正:激光功率计校正Nd:YAP激光器、半导体激光器、Nd:YAG激光器,排除激光器本身无能量耗损或者线路连接问题,可以用于实验。0℃冰水混合物和100℃水浴下校正热电偶温度测量仪,误差在0.01℃以内,可以用于实验。3.激光处理与温度测试:三种激光器分别以0.9w、1.4w、1.8w的功率照射各组样本模型30s,将测温仪的金属探头探入髓腔内紧贴髓室顶,监测各样本髓腔温度的变化并计算温升值,评价分析三种激光器治疗牙本质过敏症的安全性;4.扫描电镜观察:之后每组随机选择2个样本用扫描电镜观察牙本质小管的形态变化,每组随机拍摄10张电镜图,对牙本质小管的封闭效果进行评分,定性定量的分析评价激光治疗牙本质过敏症的有效性。结果:1.温度测试结果:使用功率为0.9w、1.4w和1.8w的三种激光脱敏时,三种激光均会引起髓腔温度升高。同种激光纵向比较,功率越大,髓腔温度升高越多,P0.05,差异具有统计学意义,其中1.8w时,引起的温升值最高,但是均小于5.5℃,在安全范围以内。当功率相同时,三种激光相互比较:Nd:YAG激光引起的温升值最高,其次是半导体激光,Nd:YAP激光温升值相对最低,说明单纯就安全性而言Nd:YAP激光治疗牙本质过敏时安全性更高。2.扫描电镜结果:本实验参数下,激光种类相同,功率不同时,激光功率越大,扫描电镜图像和牙本质小管封闭效果的评分结果均显示牙本质小管封闭效果越好,即激光脱敏效果越好;功率相同时,三种激光相互比较,Nd:YAG激光和半导体激光封闭效果优于Nd:YAP激光,其中Nd:YAG激光的封闭效果最佳(P0.05)。结论:1.本实验参数下,Nd:YAP激光、半导体激光和Nd:YAG激光用于脱敏时,Nd:YAP激光引起的髓腔温度升高值最低安全性最好,其次是半导体激光,Nd:YAG激光引起的髓腔温升值高,安全性欠佳。2.利用激光脱敏时,既要考虑有效性更应考虑安全性。在本实验所用的激光参数条件下,结合两方面综合考虑,三种激光在所选的3种功率,Nd:YAG激光在功率为0.9w时、半导体激光在1.4w时既能得到较高的牙本质小管的封闭程度,又能将髓腔温度升高值控制在较低水平,在临床上应用时兼备了安全性和有效性,值得临床参考应用。而在本实验参数下Nd:YAP激光脱敏的有效性低安全性高,不利于牙本质脱敏,为激光的临床规范化应用提供参考。3.临床应用激光时,激光治疗牙本质过敏症操作方法简单,定位准确不损伤周围组织,安全有效,具有较好的临床应用前景。激光的种类和工作参数的选择是极其重要的,一般选择从低功率到高功率逐渐过渡递增使用。另外,由于患者对温度觉和痛觉的个体差异性,因此临床上要灵活规范应用争取以达到最优的治疗效果。
【学位授予单位】:天津医科大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:R781.2
【图文】:

模型图,激光处理,牙本质过敏症,功率


邋y逦,逡逑图1.1不同功率下,Nd:YAP激光处理髓腔温度的变化逡逑根据表1.2和图1.1结果显示:Nd:YAP激光处理牙本质过敏症模型时,髓逡逑腔温度会升高#激光功率越大.,髓腔温度升高越多。功率为0.9w时,牙髓腔温逡逑度升高值较低;其次是功率为1.4w时,髓腔温度升高3.76±0.26°C;功率为1.8w逡逑时,髓腔温度升高;最多为4.38±0.15°C。各组髓腔温度升高值均小于5.5。(:。>3组逡逑之间两两比较具有统计学差异,户<0.05?逡逑12逡逑

半导体激光,牙本质过敏症,髓腔,功率


逦^逦y逡逑图1.2不同功率下,半导体激光处理髓腔温度的变化逡逑根据表1.3和图1.2结果M示:半导体激光处理牙本质过敏症模型时,髓腔逡逑温度会升高e激光功率越大,髓腔温度升商越多。功率为0.9w时,牙髓腔温度逡逑升高值较低;其次是功率为1.4w时,髓腔温度升高4.50±0.31°C;功率为1.8w逡逑时,髓腔温度升高最多为4.96±0.26°C。各组髓腔温度升高值均小于5.5°C。1.4w逡逑组与0.9w组相比,P<0.05,具有统计学差异。1.8w组%邋0.9w组相比,尸<0.05,逡逑具有统计学差异。1.4w组与1.8w组相比,P>0.05,不具有统计学差异。逡逑13逡逑

模型图,激光处理,牙本质过敏症,功率


y邋、一逦y逡逑图1.3不同功率下,Nd:YAG激光处理髓腔温度的变化逡逑根据表1.4和图1.3结果显示:Nd:YAG激光处理牙本质过敏症模型时,会逡逑引起髓腔温度升高s激光功率越大,髓腔温度升高越多。功率为0.9w时,牙髓逡逑腔温度升高值较低3.66±0.18°C;其次是功率为1.4w时,髓腔温度升高逡逑5.12±0.13°C;功率为1.8w时,髓腔温度升高最多为5.26±0.15°C。各组髓腔温度逡逑升高值均小于5.5°C。1.4w组与0.9w组相比,户<0.05,具有统计学差异6邋1.8w逡逑组与0.9w组相比,/MIOS,具有统计学差异。1.4w组与1.8w组相比,P>0.05,逡逑不具有统计学差异d逡逑14逡逑

【参考文献】

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本文编号:2756850

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