三种激光应用于牙本质过敏症安全性与有效性的离体研究
【学位授予单位】:天津医科大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:R781.2
【图文】:
邋y逦,逡逑图1.1不同功率下,Nd:YAP激光处理髓腔温度的变化逡逑根据表1.2和图1.1结果显示:Nd:YAP激光处理牙本质过敏症模型时,髓逡逑腔温度会升高#激光功率越大.,髓腔温度升高越多。功率为0.9w时,牙髓腔温逡逑度升高值较低;其次是功率为1.4w时,髓腔温度升高3.76±0.26°C;功率为1.8w逡逑时,髓腔温度升高;最多为4.38±0.15°C。各组髓腔温度升高值均小于5.5。(:。>3组逡逑之间两两比较具有统计学差异,户<0.05?逡逑12逡逑
逦^逦y逡逑图1.2不同功率下,半导体激光处理髓腔温度的变化逡逑根据表1.3和图1.2结果M示:半导体激光处理牙本质过敏症模型时,髓腔逡逑温度会升高e激光功率越大,髓腔温度升商越多。功率为0.9w时,牙髓腔温度逡逑升高值较低;其次是功率为1.4w时,髓腔温度升高4.50±0.31°C;功率为1.8w逡逑时,髓腔温度升高最多为4.96±0.26°C。各组髓腔温度升高值均小于5.5°C。1.4w逡逑组与0.9w组相比,P<0.05,具有统计学差异。1.8w组%邋0.9w组相比,尸<0.05,逡逑具有统计学差异。1.4w组与1.8w组相比,P>0.05,不具有统计学差异。逡逑13逡逑
y邋、一逦y逡逑图1.3不同功率下,Nd:YAG激光处理髓腔温度的变化逡逑根据表1.4和图1.3结果显示:Nd:YAG激光处理牙本质过敏症模型时,会逡逑引起髓腔温度升高s激光功率越大,髓腔温度升高越多。功率为0.9w时,牙髓逡逑腔温度升高值较低3.66±0.18°C;其次是功率为1.4w时,髓腔温度升高逡逑5.12±0.13°C;功率为1.8w时,髓腔温度升高最多为5.26±0.15°C。各组髓腔温度逡逑升高值均小于5.5°C。1.4w组与0.9w组相比,户<0.05,具有统计学差异6邋1.8w逡逑组与0.9w组相比,/MIOS,具有统计学差异。1.4w组与1.8w组相比,P>0.05,逡逑不具有统计学差异d逡逑14逡逑
【参考文献】
相关期刊论文 前10条
1 王婕;陈亚明;;Er:YAG激光在口腔医学领域的应用及研究进展[J];激光杂志;2015年09期
2 吕旭君;;Er:YAG激光去腐备洞治疗儿童龋齿的应用研究[J];浙江创伤外科;2015年04期
3 李雪英;林敏;从丛;滕蕊;李晓红;牛林;;Nd:YAG激光作用下牙本质脱敏机制的研究[J];西安交通大学学报(医学版);2015年02期
4 李成锋;雷志敏;;腐蚀性脱敏剂Gluma对牙本质小管封闭效果的离体实验研究[J];口腔医学研究;2014年07期
5 王曦f^;陈文静;李强;汪小彤;刘卫红;;激光龋齿诊断仪对正畸恒磨牙龋病进展的监测[J];牙体牙髓牙周病学杂志;2014年05期
6 俞明;周于华;朱倩;顾丽芬;李月铃;;半导体激光在深龋治疗中的临床效果[J];口腔材料器械杂志;2013年04期
7 方玲;朱艳莉;;扫描电镜观察不同方法去腐后牙本质玷污层的形态变化[J];中国组织工程研究;2013年38期
8 叶丽君;邓蔓菁;刘鲁川;李向杰;安建平;董正谋;;Er:YAG激光与氟化钠治疗牙本质过敏症的疗效观察[J];口腔医学研究;2013年03期
9 胡明;吴大明;梁睿贞;;半导体激光治疗牙本质过敏症疗效观察[J];中华实用诊断与治疗杂志;2011年10期
10 吴为良;林实;姜醒;阮坚勇;;Er:YAG激光照射后牙本质粘结界面的剪切强度分析[J];福建医药杂志;2010年03期
相关硕士学位论文 前1条
1 罗妍彦;半导体激光照射时间对牙髓及牙本质的影响研究[D];大连医科大学;2007年
本文编号:2756850
本文链接:https://www.wllwen.com/yixuelunwen/kouq/2756850.html