当前位置:主页 > 医学论文 > 生物医学论文 >

焦距递减的多聚焦人工复眼研究(英文)

发布时间:2018-11-21 21:25
【摘要】:为了满足轻量化、微型化和大视场的要求,提出了一种焦距递减的多聚焦人工复眼,子眼以同心圆排布,同一同心圆上的子眼具有相同的焦距,从内到外焦距递减.采用光刻胶回流法制作该曲面人工复眼,通过光刻胶的用量与掩膜的设计将每个子眼的焦距控制在一个特定的范围,从而使所有的子眼能在同一平面聚焦.为了防止微透镜图形的破坏,采用了负压成型技术,制作了聚二甲基硅氧烷腔室用以在注胶时排除异物与空气.透镜材料Norland81具有良好的光学性能,且曝光时间比Norland61要快3至5倍.利用ZEMAX建立复眼模型并进行了模拟仿真,光线追迹结果表明该模型即使在大视场下也能获得清晰像点.
[Abstract]:In order to meet the requirements of lightweight, miniaturization and large field of view, a multi-focus artificial compound eye with decreasing focal length is proposed. The sub-eye is arranged in concentric circles, and the sub-eye on the same concentric circle has the same focal length, and the focal length decreases from inside to outside. The photoresist reflux method is used to fabricate the artificial compound eye of the curved surface. The focal length of each eye is controlled in a specific range by the amount of photoresist and the design of mask, so that all the eyes can focus in the same plane. In order to prevent the destruction of microlens patterns, a polydimethylsiloxane chamber was fabricated by using negative pressure molding technology to exclude foreign bodies and air during glue injection. The lens material Norland81 has good optical properties and the exposure time is 3 to 5 times faster than that of Norland61. The compound eye model is established by ZEMAX and simulated. The results of ray tracing show that the model can obtain clear image points even in large field of view.
【作者单位】: 重庆大学光电学院光电技术与系统教育部重点实验室;
【基金】:The Specialized Research Fund for the Doctoral Program of Higher Education of China(No.20130191110021)
【分类号】:R318.18;O439

【参考文献】

相关期刊论文 前6条

1 邸思;杜如虚;;单层曲面复眼成像系统的优化设计[J];光电工程;2010年02期

2 张玉;刘德森;;六角形孔径平面微透镜阵列的制作及基本特性研究[J];光子学报;2008年08期

3 邢强;戴振东;王浩;;仿复眼的动目标位置快速估计算法[J];光子学报;2014年06期

4 曹阿秀;史立芳;石瑞英;邓启凌;杜春雷;;大视场复眼结构图像处理算法研究[J];光子学报;2014年05期

5 高天元;董正超;赵宇;刘智颖;;视场拼接复眼成像系统结构及装调方法[J];光子学报;2014年11期

6 杨俊;蒋维涛;王兰兰;刘红忠;;曲面仿生复眼透镜微复型过程变形分析[J];西安交通大学学报;2013年05期

【共引文献】

相关期刊论文 前10条

1 蒋小平;刘德森;张凤军;周素梅;赵志芳;陈小梅;;一种掩埋式复眼微透镜阵列[J];光电子.激光;2011年08期

2 蒋小平;刘德森;;变折射率球面六角形孔径平面微透镜阵列[J];光学学报;2010年06期

3 詹珍贤;王克逸;丁志中;姚海涛;;液滴透镜在电场中的变形研究[J];光子学报;2009年11期

4 袁艳;周宇;胡煌华;;光场相机中微透镜阵列与探测器配准误差分析[J];光子学报;2010年01期

5 孙艳军;冷雁冰;陈哲;董连和;;用于红外焦平面的正方形孔径球面微透镜阵列研究[J];光子学报;2012年04期

6 李向红;刘俊;张斌珍;唐军;;NOA73材料的曲面微透镜阵列的制作[J];光电子.激光;2013年02期

7 邹成刚;张红霞;宋乐;范阳;张以谟;;多层曲面仿生复眼成像系统的设计[J];吉林大学学报(信息科学版);2013年04期

8 范阳;张红霞;宋乐;贾大功;;大视场自由曲面复眼设计研究[J];光电工程;2014年07期

9 高天元;董正超;赵宇;刘智颖;;视场拼接复眼成像系统结构及装调方法[J];光子学报;2014年11期

10 尹航;董连和;宋璇;陈哲;;球面基底上制作微柱面透镜工艺研究[J];长春理工大学学报(自然科学版);2014年06期

相关博士学位论文 前4条

1 蒋小平;仿复眼六角形孔径掩埋式变折型曲面微透镜阵列研究[D];苏州大学;2011年

2 詹珍贤;非球面液滴微透镜及其阵列的制作和应用研究[D];中国科学技术大学;2010年

3 孙艳军;基于矩形孔径微透镜阵列的红外焦平面集成技术研究[D];长春理工大学;2014年

4 马孟超;用于目标三维探测的复眼系统设计研究[D];中国科学技术大学;2014年

【二级参考文献】

相关期刊论文 前10条

1 张红鑫;卢振武;李凤有;;人工仿生复眼的研究进展[J];长春理工大学学报;2006年02期

2 张滋黎;邾继贵;耿娜;周虎;叶声华;;双经纬仪三维坐标测量系统设计[J];传感技术学报;2010年05期

3 蔡梦颖;徐贵力;;仿蝇复眼视觉系统中大视场图像的拼接[J];传感器与微系统;2007年12期

4 邸思;徐洪奎;杜如虚;;人造复眼成像系统研究的新进展[J];光学与光电技术;2008年04期

5 ;Binary Laser Direct Writing System and Its Applications[J];光学精密工程;2001年05期

6 张红鑫;卢振武;王瑞庭;李凤有;刘华;孙强;;曲面复眼成像系统的研究[J];光学精密工程;2006年03期

7 郭方;王克逸;闫佩正;吴青林;;用于大视场目标定位的复眼系统标定[J];光学精密工程;2012年05期

8 徐琰;颜树华;周春雷;张军;;昆虫复眼的仿生研究进展[J];光学技术;2006年S1期

9 田维坚,姚胜利,陈荣利,张薇,李小俊;用于运动目标探测的多通道成象系统[J];光子学报;2002年01期

10 韩艳玲;刘德森;李景艳;蒋小平;;方形自聚焦透镜的研制[J];光子学报;2006年09期

【相似文献】

相关期刊论文 前10条

1 赵晶丽;王惠卿;冯晓国;梁凤超;;凹球面涂布光刻胶均匀性研究[J];应用光学;2009年01期

2 钱石南;光刻胶照相镀铬法[J];光学技术;1980年04期

3 ;SHN-1型双叠氮-环化异戊橡胶类紫外负性光刻胶[J];复旦学报(自然科学版);1987年01期

4 付金美,石琳,郭金梁;彩色液晶显示与颜料分散光刻胶[J];大学化学;1998年03期

5 李淑琴,时贤庆;用于制作小面积隧道结的悬挂光刻胶掩模[J];低温与超导;1990年04期

6 李文昊;巴音贺希格;齐向东;;基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理[J];微细加工技术;2007年01期

7 姜兆华;张伟;王尧;吴滨;印伟峨;;大幅面光刻胶板的显影工艺与终点控制技术[J];应用激光;2008年06期

8 张洪波;;光刻胶特性曲线参数测量的新方法[J];物理与工程;2010年04期

9 吕广镛,刘丽俐,黄建兴;用分级方法提高聚酯型光刻胶的质量[J];华南师范大学学报(自然科学版);1988年01期

10 吕广镛,罗祖波,唐寒;聚酯型光刻胶的发光行为[J];华南师范大学学报(自然科学版);1989年01期

相关会议论文 前10条

1 韩婷婷;李波;李玉香;王卿璞;;超临界CO_2微乳液对高浓度离子注入光刻胶的清洗[A];第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集(第6分册)[C];2010年

2 王力元;;193nm光刻胶用光产酸剂研制[A];集成电路配套材料研讨会及参展资料汇编[C];2004年

3 许箭;王双青;杨国强;;新型双酚A系列光刻胶的极紫外光刻研究[A];第十三届全国光化学学术讨论会论文集[C];2013年

4 王力元;王文君;张改莲;;193nm光刻胶适用硫摀盐光产酸剂的合成及性质[A];全面建设小康社会:中国科技工作者的历史责任——中国科协2003年学术年会论文集(上)[C];2003年

5 穆启道;;我国超净高纯试剂和光刻胶的现状与发展[A];电子专用化学品高新技术与市场研讨会论文集[C];2004年

6 杨景华;贾少霞;李超波;夏洋;王守国;;常压射频介质阻挡等离子体去除光刻胶前后的FTIR分析[A];第十六届全国等离子体科学技术会议暨第一届全国等离子体医学研讨会会议摘要集[C];2013年

7 邹应全;;在MEMS加工中光刻胶的应用[A];2014第十五届中国辐射固化年会论文集[C];2014年

8 柯旭;巫文强;王跃川;;用于玻璃刻蚀的新型光刻胶[A];2006年全国高分子材料科学与工程研讨会论文集[C];2006年

9 许箭;陈力;王双青;杨国强;;含双酚A骨架结构分子玻璃化合物的制备及其在极紫外光刻中的应用[A];中国化学会第28届学术年会第11分会场摘要集[C];2012年

10 张晔;陈迪;张金娅;朱军;刘景全;;UV-LIGA中光源波长和曝光量对SU-8光刻胶微结构的影响[A];中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集(一)[C];2005年

相关重要报纸文章 前10条

1 本报记者 赵艳秋;光刻胶行业:“刻”不容缓[N];中国电子报;2002年

2 盈如;永光建立世界级光刻胶供货商地位[N];电子资讯时报;2005年

3 本报记者 王莉;技术创新领跑微电子材料[N];苏州日报;2005年

4 记者 李大庆;我第一条百吨级高档光刻胶生产线投产[N];科技日报;2009年

5 北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理 陈昕;多方努力寻求高档光刻胶突破[N];中国电子报;2009年

6 吴坚;紧跟电子信息业发展步伐[N];中国化工报;2003年

7 苏州瑞红电子化学品有限公司技术部部长 顾奇;TFT用感光材料国内外技术悬殊国内化学品企业努力追赶[N];中国电子报;2009年

8 本文由永光化学电处技术发展部提供;光刻胶在LED工艺上的使用技术[N];电子资讯时报;2004年

9 ;永光化学:生产基地渐入佳境 LED光刻胶独树一帜[N];中国电子报;2008年

10 北京科华微电子材料有限公司董事长兼总经理 陈昕;TFT高性能光刻胶国产化势在必行[N];中国电子报;2009年

相关博士学位论文 前5条

1 刘建国;耐高温紫外正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶的研制[D];华中科技大学;2007年

2 唐雄贵;厚胶光学光刻技术研究[D];四川大学;2006年

3 魏杰;激光光盘信息记录光刻胶的合成与感光[D];北京化工大学;1998年

4 李木军;接近式光刻仿真研究[D];中国科学技术大学;2007年

5 张晓蕾;超声提高SU-8光刻胶/金属基底界面结合强度研究[D];大连理工大学;2015年

相关硕士学位论文 前10条

1 王瑛;紫外厚胶深光刻技术研究[D];长春理工大学;2010年

2 朱冬华;三苯胺多枝化合物为引发剂的光刻胶过程作用的研究与含三苯胺的化合物合成[D];苏州大学;2010年

3 冯伟;含氟气体的去光刻胶工艺灰化率提高的研究[D];上海交通大学;2007年

4 雷国韬;曲表面光刻胶涂覆技术研究[D];长春理工大学;2012年

5 张春晖;光刻工艺中的曲面胶厚检测[D];浙江大学;2010年

6 韩婷婷;超临界CO_2微乳液去除光刻胶的研究[D];山东大学;2011年

7 刘干;化学增幅光刻胶及其在电子束光刻中的应用[D];江南大学;2008年

8 赖海长;后段干法去除光刻胶工艺研究[D];上海交通大学;2011年

9 李波;超临界CO_2用于光刻胶去除和低k材料修复的研究[D];山东大学;2012年

10 何姣;双丙酮丙烯酰胺改性甲基丙烯酸酯类光刻胶的制备[D];湖南大学;2011年



本文编号:2348294

资料下载
论文发表

本文链接:https://www.wllwen.com/yixuelunwen/swyx/2348294.html


Copyright(c)文论论文网All Rights Reserved | 网站地图 |

版权申明:资料由用户b97f7***提供,本站仅收录摘要或目录,作者需要删除请E-mail邮箱bigeng88@qq.com