两种种植氧化锆底层冠不同粘接间隙适合性的比较研究

发布时间：2020-11-08 16:50

　　目的:本实验通过预设不同的粘接间隙值,评估Cercon(DeguDent公司,德国)和Organical(R+K公司,德国)CAD/CAM(Computer-aided Designed/Computer-aided Manufacturing)系统制造的种植氧化锆底层冠与个性化基台边缘及内部的适合性,为临床种植氧化锆冠制作时CAD/CAM系统和较佳粘接间隙预设值的选择提供实验依据。材料与方法:标准模型上制备Bego种植牙实验模型。制作CAD/CAM个性化氧化锆基台。Cercon和R+K CAD/CAM系统按如下粘接间隙预设值各分为5组:0μm(0组)、20μm(20组)、30μm(30组)、45μm(45组)、60μm(60组),其余的设计均相同。分别安装配套的瓷块,每个实验组分别切削5个底层冠,最终获得50个底层冠。烧结后查看无瑕疵并在同一个基台上就位,由两名临床医生评估冠的回位率和边缘适合性。然后,将每个牙冠分别就位在同一个基台上,用Micro CT(Micro Computed Tomography,微机断层扫描)扫描、Mimics软件测量底层冠与基台的OG值(Occlusal Gap,咬合间隙)、AG值(Axial Gap,轴面间隙)、AMD值(Absolute Marginal Discrepancy,绝对边缘差异)、MG值(Marginal Gap,边缘垂直间隙)。应用SPSS 21.0软件对获得的原始数据进行统计学分析。结果:(1)两种CAD/CAM系统制作的底层冠均能在同一个基台上被动就位,所有底层冠的回位率为100%。根据改良的USPHS标准评估冠的适合性,R+K和Cercon组边缘适合性达到A级的比例均大于85%。两组底层冠边缘适合性的对比无明显的统计学差异(P0.05)。(2)利用Mimics17.0软件测定每组氧化锆底层冠与基台的边缘和内部适合性,实验数据显示:(1)Cercon系统的边缘和内部间隙值均小于150μm;30μm组的MG、60μm组的OG和AG值均最小,MG值中30μm和60μm组的比较有统计学意义(P0.05)。(2)R+K系统,0、20μm组的内部间隙大于150μm,其它组的适合性均在临床可接受的范围内。其中MG值中,60μm组与30μm、45μm组的比较均有统计学差异(P0.05);AG值中,30μm组与45μm组(P=0.0450.05)、60μm组的比较(P0.05)都有统计学差异;OG值中,45μm组与30、60μm组的比较均有统计学意义(P0.05)。(3)Cercon和R+K底层冠在30、45、60μm组的MG、OG、AG值的比较中均有明显的差异(P0.05),Cercon组的适合性均小于R+K组。(4)两个系统各间隙组中AMD与MG值,OG与AG值的比较都有统计学意义(P0.05),AMD、OG值分别大于MG、AG值。结论:(1)在本实验条件下,Cercon系统的所有粘接间隙组的适合性均在临床可接受的范围内;粘接间隙预设为30μm组氧化锆底层冠的边缘垂直间隙优于60μm组。(2)R+K系统粘接间隙预设为30、45、60μm时,氧化锆冠的内部和边缘的适合性都符合临床可接受的参考标准;30μm组氧化锆底层冠的边缘垂直间隙和内部适合性优于45、60μm组。(3)粘接间隙设置为30、45、60μm时,Cercon底层冠的内部和边缘垂直间隙明显优于R+K底层冠。(4)Cercon和R+K CAD/CAM系统的边缘和内部适合性并非均匀一致,咬合面比轴面适合性较差,边缘垂直间隙相对于边缘绝对差异较优。
【学位单位】：大连医科大学
【学位级别】：硕士
【学位年份】：2018
【中图分类】：R783.1
【部分图文】：

模型图,标准模型,缺失,模型

大连医科大学硕士学位论文2、方法2.1 样本的制备2.1.1 标准石膏模型的制备去除标准石膏模型上的左上颌第一前磨牙，再沿牙体长轴研磨备洞，制备方向是从根方通向冠方，达到冠根向的完全穿通。在穿通区中央插入 Bego 种植体替代体（直径 3.75mm）1 枚，替代体颈部距离颊侧牙龈边缘中点约 4mm，并用丙烯酸树脂固定。旋入 Bego 种植体闭窗转移杆，安放印模帽后，用托盘取模。待聚醚印模材料硬固后，使托盘从石膏模型脱位，印模帽固定于阴模中。从模型上拧下转移杆，与替代体旋紧后，沿着卡槽正确就位在阴模上。静置 30 分钟后人工牙龈材料注射于替代体四周，待人工牙龈硬固后，灌注超硬石膏模型，备用。

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