含氮Mn（Ⅱ）配合物的合成及成膜性能研究

发布时间：2021-03-30 19:49

　　锰基薄膜材料因其具备稳定性、巨磁性、电容可逆性等,而被广泛应用于锂离子电池、超级电容器、磁阻器、微电子等领域。随着科技不断的发展,人们对薄膜材料提出了更加苛刻的要求。在目前报道的薄膜沉积方式中,以化学气相沉积技术（CVD）和原子层沉积（ALD）技术得到的薄膜性能最佳。由ALD/CVD技术原理可知,化学前驱体是CVD、ALD技术的基础。前驱体结构不同,其化学反应活性及热性能就会不同,这样会导致成膜工艺出现很大差异,影响沉积速率,最终也会影响薄膜的性能。此外目前ALD/CVD锰前驱体还存在一些不足,包括数量稀少、结构单一、相应ALD过程沉积速率较低等。针对以上问题,本文从化学工作者角度出发,设计合成出多种新型的Mn（Ⅱ）配合物,并通过沉积实验评价了所合成出的Mn（Ⅱ）配合物作为ALD/CVD前驱体的可行性。相应研究结果为人们针对锰前驱体提供了更多的选择,而且解决了目前报道的ALD工艺沉积速率较低的问题。具体研究内容如下:（1）设计合成了高反应活性的六种含氮乙基脒基Mn（Ⅱ）配合物,并对其进行了热化学性质的研究。由于引入官能团的不同,使得Mn（Ⅱ）配合物的热化学性质存在差异,表现出“构效”效... 

【文章来源】：江南大学江苏省 211工程院校 教育部直属院校

【文章页数】：103 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

CVD的反应过程

图 1-2 原子层沉积主要步骤Figure 1-2 Key steps of atomic layer deposition 所示：以 AlMe3与 H2O 沉积 Al2O3薄膜为例，详细介绍 A

CVD（红色）和 ALD（红色+蓝色）前驱体所具备5 Summary of the most important characteristics for an and ALD (red+blue) precursor，由于 ALD 和 CVD 在沉积原理上存在差异，，以下先对 CVD 前驱体该具备的性质进行简发性，在沉积薄膜过程中，前驱体可以在相对至基底表面；的沉积温度，这样沉积条件相对温和，大大降降低设备耗能节约成本；存在和分解无污染；，合成简单廉价方便；具备的性质：的挥发性；的热稳定性，在沉积过程中不能发生热分解；

【参考文献】：
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本文编号：3110049