溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响

发布时间：2017-09-16 02:08

  本文关键词：溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响

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【摘要】：采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1~1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌。结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32~4.81nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2~11.7nm之间;溅射气压为0.2Pa和0.3Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多。
【作者单位】： 北京低碳清洁能源研究所;北京市纳米结构薄膜太阳能电池工程技术研究中心;
【关键词】： 磁控溅射 CIGS Mo背电极 溅射气压 形貌结构
【分类号】：TB383.2;O646.54
【正文快照】： (1 National Institute of Clean-and-Low-Carbon Energy,Beijing 102211;2 Beijing Engineering Research Center ofNano-Structured Thin-Film Solar Cell,Beijing 102211)宋斌斌:男,1982年生,博士,高级工程师,主要研究方向为功能薄膜材料的制备与表征E-mail:songbinbin@nic

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