光刻机曝光系统中物镜抛光专利分析

发布时间：2021-04-05 00:49

　　光刻机是加工芯片的关键器件,每一个部件都要满足高精度的设计要求,其中最基础的一步是物镜的加工,直接影响最后的线宽精度。本文针对全球专利数据库中的物镜加工中的打磨抛光技术进行了梳理,打磨抛光分为离子束抛光、磁流变抛光、抛光盘抛光和柔性介质抛光四个技术分支,分析了各个分支的占比、申请趋势以及技术发展脉络,以期对国内物镜加工的技术发展提供借鉴。 

【文章来源】：电子元器件与信息技术. 2020,4(07)

【文章页数】：2 页

【部分图文】：

各技术分支申请趋势

【参考文献】：
期刊论文
[1]投影曝光技术在柔性折叠屏触控电路制作中的应用与发展[J]. 李会丽,魏崇喜,李喜峰.  电子元器件与信息技术. 2020(04)
[2]14nm工艺光刻对准之异常问题与对策探讨[J]. 孙德昌,宋贵才,黄羽茜.  电子元器件与信息技术. 2020(01)
[3]光刻物镜光学零件制造关键技术概述[J]. 戴一帆,彭小强.  机械工程学报. 2013(17)
[4]亚微米i线和g线投影光刻物镜研制[J]. 陈旭南,林大键,王效才.  微细加工技术. 1997(02)

博士论文
[1]光学镜面离子束修形理论与工艺研究[D]. 周林.国防科学技术大学 2008



本文编号：3118814