纳米压印胶专利技术研发态势 全文替换

发布时间：2022-12-25 13:50

　　纳米压印胶是目前纳米压印技术研发的关键材料,对纳米压印的质量起到关键作用。该文从纳米压印胶的基本技术概况出发,分析阐述了当前纳米压印胶专利技术的专利申请态势、主要申请人和重点技术,梳理了该技术的发展脉络,绘制了技术演进路线图,并对技术发展趋势进行了预测。 

【文章页数】：17 页

【文章目录】：
1 引言
2 纳米压印胶技术概况
    2.1 纳米压印胶的特性
    2.2 纳米压印胶的类型
        2.2.1 热压印胶
        2.2.2 紫外压印胶
    2.3 技术分解表
3 数据库与检索策略
    3.1 数据库的选择
    3.2 检索策略
4 纳米压印胶专利技术现状
    4.1 全球专利申请趋势
    4.2 纳米压印胶专利技术发展路线
        4.2.1 技术萌芽期（1995-2000年）
        4.2.2 第一发展期（2001-2008年）
        4.2.3 第二发展期（2009年至今）
    4.3 地域分布分析
        4.3.1 全球地域分布情况
        4.3.2 全球专利申请主要来源地和主要目的地分布情况
        4.3.3 中国专利申请的来源分析
    4.4 主要申请人分析
        4.4.1 全球主要申请人排名
        4.4.2 全球主要申请人的技术分布分析
        4.4.3 国内申请人排名
    4.5 技术构成分析
    4.6 技术-功效分析
5 重点申请人分析
    5.1 申请量趋势比较
    5.2 专利布局分布
    5.3 技术构成分布
6 结论与启示



本文编号：3726739