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铝屏蔽间隙对聚醚醚酮高能电子辐射下介质深层充电特性的影响

发布时间:2021-10-05 05:15
  航天器电源系统、导电旋转机构等部件外层使用金属屏蔽层进行辐射防护,屏蔽层会影响电子辐射下介质充放电特性。为此以聚醚醚酮为研究对象,通过设置铝屏蔽层与介质之间的间隙,构建具有不同铝屏蔽与介质间隙结构的二维介质深层充电仿真模型;采用有限元分析方法仿真分析了电子辐射下,不同铝屏蔽间隙对聚醚醚酮充电特性的影响,并分析了工作电压极性的影响。结果表明,铝屏蔽距离越小,介质表面电荷积聚越严重,且积聚量随辐射时间增加而增大。当铝屏蔽接触介质时,介质表面电荷积聚量迅速减小,瞬时表面电荷会发生变化,随时间增加,表面电荷很小且基本不变,介质内部电荷也减小,同时,靠近铝屏蔽侧出现正负电荷峰。铝屏蔽不接触介质且工作电压为正极性时,表面电荷减少;为负时表面电荷增加。铝屏蔽接触介质和距离较远时有利于缓解介质充放电效应,提高航天器运行稳定性。 

【文章来源】:高电压技术. 2020,46(11)北大核心EICSCD

【文章页数】:11 页

【部分图文】:

铝屏蔽间隙对聚醚醚酮高能电子辐射下介质深层充电特性的影响


仿真计算模型示意图

电荷,介质,表面,电荷分布


图3为不同铝屏蔽间隙模型0 V电极电压辐射30 min后PEEK内部的电荷分布情况。图4为0 mm铝屏蔽间隙模型0 V电压下PEEK内电荷不同时刻的空间分布。为使内部电荷趋势更明显,图3中不包含介质被辐射侧表面和介质–电极界面的电荷密度数据(即有限元中PEEK辐射方向的第一个节点和最后一个节点)。图3 不同铝屏蔽间隙30 min辐射后PEEK内部的电荷分布情况

电荷分布,电荷分布,间隙,电荷


不同铝屏蔽间隙30 min辐射后PEEK内部的电荷分布情况

【参考文献】:
期刊论文
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本文编号:3419071

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