高硅铝合金无烟化学抛光剂的研制

发布时间：2018-04-02 06:44

  本文选题：化学抛光　切入点：高硅铝合金　出处：《材料保护》2015年12期

【摘要】：目前以H3PO4、H2SO4为基础的两酸无烟化学抛光体系对高硅铝合金的抛光效果不理想。在磷酸+硫酸+双氧水的基础液中,添加一定量的硫酸铁、三氧化二铬以及过硫酸铵,考察了不同质量的添加物对6063高硅铝合金化学抛光效果的影响。采用简单正交试验方式,以试样的反光率及麻点数量表征试样的抛光效果,优选了较优的抛光液成分。结果表明:按硫酸(85%)10 m L、磷酸(95%)20 m L、双氧水2 m L、硫酸铁0.1 g、三氧化二铬0.1 g、过硫酸铵0.1 g配制的抛光液抛光效果最佳。
[Abstract]:At present, the smokeless chemical polishing system based on H _ 3PO _ 4 and H _ 2SO _ 4 is not ideal for high silicon aluminum alloy.The effect of additives of different quality on the chemical polishing of 6063 high silicon aluminum alloy was investigated by adding certain amount of ferric sulfate, chromium trioxide and ammonium persulfate into the basic solution of hydrogen peroxide phosphate.The polishing effect of the sample was characterized by the reflectivity of the sample and the number of points in the sample by the simple orthogonal test method, and the better polishing liquid composition was selected.The results showed that the best polishing effect was obtained when the polishing solution was prepared in the range of 85 渭 m / L sulfuric acid, 20 mL phosphate, 2 mL hydrogen peroxide, 0.1 g ferric sulfate, 0.1 g chromium trioxide and 0.1 g ammonium persulfate.
【作者单位】： 江西理工大学应用科学学院矿冶工程系;
【基金】：国家国际科技合作专项(2011DFR50970)资助
【分类号】：TG175.3

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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本文编号：1699212