1064nm激光预处理对HfO 2 /SiO 2 反射膜损伤形态转化影响研究

发布时间：2021-03-21 00:27

　　实验研究了不同激光预处理参数对于纳秒激光多脉冲作用下HfO₂/SiO₂反射膜损伤形态转化的影响。通过对比两类损伤扩张性和对薄膜功能性破坏机制,提出激光预处理技术的重要意义在于抑制损伤形态转化过程。通过薄膜损伤形态分析揭示了激光预处理作用机制为节瘤缺陷的去除和亚表面吸收前驱体的形成两方面的综合作用。实验结果表明:预处理后薄膜损伤形态转化特征曲线向更高通量和更多发次方向平移。针对现有工艺下的薄膜,采用高通量、两台阶的预处理参数组合能够获得兼顾效率的最佳收益,其零几率损伤形态转化阈值最高可以提升140%。 

【文章来源】：红外与激光工程. 2017,46(06)北大核心EICSCD

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
0 引言
1 损伤形态分类与形态转化
2 实验条件
3 结果与讨论
    3.1 激光预处理参数对损伤形态转化影响
    3.2 激光预处理机制
4 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]532nm HfO2/SiO2高反膜的激光预处理效应[J]. 刘杰,张伟丽,朱美萍.  强激光与粒子束. 2015(03)
[2]中等口径光斑激光预处理[J]. 郑轶,刘志超,马平,陈松林,张清华.  强激光与粒子束. 2013(12)
[3]1064nm激光多脉冲下HfO2/SiO2高反膜损伤规律[J]. 刘志超,陈松林,罗晋,潘峰,李树刚.  红外与激光工程. 2012(05)
[4]电子束蒸发制备HfO2/SiO2高反膜的1064 nm激光预处理效应[J]. 刘晓凤,李大伟,李笑,赵元安,邵建达.  中国激光. 2009(06)



本文编号：3091952