铜基有机骨架Cu-H 4 L 1 的制备及对阳离子艳红5GN的光催化降解
发布时间:2021-03-08 04:21
制备了一种铜基有机骨架材料Cu-H4L1,并用其对水相中的阳离子艳红5GN进行吸附和可见光催化降解试验。结果表明:30 mg Cu-H4L1在180 min内对10 mL质量浓度为10 mg/L的阳离子艳红5GN吸附率高达88.42%,吸附速率为9.70×10-2mg/(g·min);在可见光照射下,100 min内5 mg Cu-H4L1对40 mL质量浓度为10 mg/L的阳离子艳红5GN的光催化降解效率达到100%。采用傅里叶红外光谱、X射线衍射和热重分析等对Cu-H4L1进行测试表征,结果显示Cu-H4L1具有较好的晶形和较高的热稳定性。
【文章来源】:印染. 2020,46(01)北大核心
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
H4L1和Cu-H4L1的红外光谱图
由图2可以看出,文献中报道的Cu-H4L1有三个主要特征峰,其衍射角分别在5.12°、6.40°和11.38°,本试验所合成的Cu-H4L1的XRD图在以上三个角度都有相应的特征峰,两者相吻合。因此,本试验成功合成了文献中报道的Cu基MOF:CuH4L1(HNUST-1)。2.1.3 Cu-H4L1的热稳定性
对制备的样品进行热稳定性测试,见图3。由图3可以看出,Cu-H4L1在N2气氛下由50℃升温至800℃的过程中主要经历了三个质量损失过程:50~115.25℃的质量减少是由于Cu-H4L1孔道里游离的DMF分子和乙腈分子随温度上升而逸出造成的;115.25~264.75℃范围内的质量减少归因于与Cu(II)配位的DMF溶剂分子在高温下脱离所致;在264℃之后的质量损失,是因为Cu-MOF的主体框架开始发生坍塌所造成的。由此可知,所制备的Cu-H4L1具有很好的热稳定性。
【参考文献】:
期刊论文
[1]双功能Cu-MOF对染料的物理吸附及光化学降解[J]. 王雅,李庆,管斌斌,樊增禄. 印染. 2019(11)
[2]氧化还原酶在印染废水处理中的应用[J]. 庄华炜. 印染. 2019(09)
[3]Cu-有机骨架对染料废水的吸附和可见光降解[J]. 李庆,张莹,樊增禄,朱炜. 纺织学报. 2018(02)
[4]印染废水的O3+Fenton+UV/H2O2组合氧化处理技术[J]. 贾中原,夏斌,郭海波. 印染. 2017(15)
[5]探析印染废水的危害及其治理措施[J]. 翟英华. 黑龙江科技信息. 2017(11)
[6]印染废水处理及其资源化利用[J]. 石泰山. 印染. 2013(23)
本文编号:3070402
【文章来源】:印染. 2020,46(01)北大核心
【文章页数】:5 页
【部分图文】:
H4L1和Cu-H4L1的红外光谱图
由图2可以看出,文献中报道的Cu-H4L1有三个主要特征峰,其衍射角分别在5.12°、6.40°和11.38°,本试验所合成的Cu-H4L1的XRD图在以上三个角度都有相应的特征峰,两者相吻合。因此,本试验成功合成了文献中报道的Cu基MOF:CuH4L1(HNUST-1)。2.1.3 Cu-H4L1的热稳定性
对制备的样品进行热稳定性测试,见图3。由图3可以看出,Cu-H4L1在N2气氛下由50℃升温至800℃的过程中主要经历了三个质量损失过程:50~115.25℃的质量减少是由于Cu-H4L1孔道里游离的DMF分子和乙腈分子随温度上升而逸出造成的;115.25~264.75℃范围内的质量减少归因于与Cu(II)配位的DMF溶剂分子在高温下脱离所致;在264℃之后的质量损失,是因为Cu-MOF的主体框架开始发生坍塌所造成的。由此可知,所制备的Cu-H4L1具有很好的热稳定性。
【参考文献】:
期刊论文
[1]双功能Cu-MOF对染料的物理吸附及光化学降解[J]. 王雅,李庆,管斌斌,樊增禄. 印染. 2019(11)
[2]氧化还原酶在印染废水处理中的应用[J]. 庄华炜. 印染. 2019(09)
[3]Cu-有机骨架对染料废水的吸附和可见光降解[J]. 李庆,张莹,樊增禄,朱炜. 纺织学报. 2018(02)
[4]印染废水的O3+Fenton+UV/H2O2组合氧化处理技术[J]. 贾中原,夏斌,郭海波. 印染. 2017(15)
[5]探析印染废水的危害及其治理措施[J]. 翟英华. 黑龙江科技信息. 2017(11)
[6]印染废水处理及其资源化利用[J]. 石泰山. 印染. 2013(23)
本文编号:3070402
本文链接:https://www.wllwen.com/projectlw/qgylw/3070402.html