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专利授权规范的完善——以防止低质量发明与实用新型专利为目的

发布时间:2018-05-08 16:57

  本文选题:禁止重复授权 + 同样的发明创造 ; 参考:《知识产权》2017年05期


【摘要】:发明与实用新型专利授权规范的冲突与漏洞,导致一些低质量专利合法产生。鉴于此,专利行政机关应有权撤销构成同样的发明创造的授权在先的专利权,消除重复授权缺陷的修改须达到既不实质相同、也不是显而易见变型的程度,抵触申请可以用于评价创造性。
[Abstract]:The conflict and loophole between invention and utility model patent license standard lead to some low-quality patents. In view of this, the patent administration should have the power to revoke the patent rights that constitute the prior authorization for the same invention and to eliminate the defects of duplicate authorizations to the extent that they are neither substantially identical nor manifestly altered, Conflicting applications can be used to evaluate creativity.
【作者单位】: 北京化工大学文法学院;北京知识产权研究基地;
【基金】:国家社科基金项目(14BFX101) 中央高校基本科研业务费项目(pt1618)资助
【分类号】:D923.42

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本文编号:1862227

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